与单面清洗不同，12寸晶圆的双面清洗需同步处理正反两面，这对设备精度提出极高要求。想象一下，一片厚度不足1毫米的薄片，既要承受上下夹击的流体冲击，又要保持绝对平整——任何微小的变形都可能导致电路错位。

CMP抛光液，由超细固体粒子研磨剂、氧化剂、表面活性剂、稳定剂等物质组成。CMP抛光液中发挥主要作用的是固体粒子研磨剂和氧化剂，固体粒子研磨剂一般为纳米级，发挥研磨作用，氧化剂发挥腐蚀溶解作用。抛光液浓度、研磨剂种类和大小、酸碱性、流速等 ...

行业主要上市公司：安集科技(688019)、上海新阳(300236)、鼎龙股份(300054)、万华化学(600309)等 CMP抛光液，由超细固体粒子研磨剂、氧化剂、表面活性剂、稳定剂等物质组成。CMP抛光液中发挥主要作用的是固体粒子研磨剂和氧化剂，固体粒子研磨剂一般为纳米级 ...

行业主要上市公司：安集科技(688019)、上海新阳(300236)、鼎龙股份(300054)、万华化学(600309)等 中国CMP抛光液行业目前主要依赖于国外进口，美国日本等全球CMP抛光液龙头企业均在中国市场有所布局。由于国外龙头企业产品技术先进、产品线也更为成熟，因此被放在 ...

在半导体材料国产替代浪潮持续推进与电子化学品行业快速发展的背景下，鼎龙股份交出了部分亮眼的2025年经营答卷，即全年归属于上市公司股东的净利润预计达7亿元至7.3亿元，同比增长34.44%至40.20%，盈利规模与增长速度稳居行业头部。这一成绩的背后 ...

碳化硅(SiC)半导体产量的快速增长推动了工艺技术的重大进步。在化学机械平坦化(CMP)方面，降低应力等进步至关重要，因为应力会影响晶圆形状(尤其是弯曲和翘曲)，从而对晶圆处理和加工带来重大挑战。 碳化硅(SiC)半导体产量的快速增长推动了工艺技术的重大 ...

中国CMP抛光液行业目前主要依赖于国外进口，美国日本等全球CMP抛光液龙头企业均在中国市场有所布局。由于国外龙头企业产品技术先进、产品线也更为成熟，因此被放在中国市场的第一梯队。安集科技作为中国CMP抛光液的龙头企业，在中国大陆市场占据了较大 ...

中国CMP抛光液行业目前主要依赖于国外进口，美国日本等全球CMP抛光液龙头企业均在中国市场有所布局。由于国外龙头企业产品技术先进、产品线也更为成熟，因此处于中国市场的第一梯队。安集科技作为中国CMP抛光液的龙头企业，在中国大陆市场占据了较大的 ...

1.1. CMP 工艺是晶圆全局平坦化的关键工艺 晶圆制造流程可以广义地分为晶圆前道和后道 2 个环节，其中前道工艺在晶圆厂中进行，主要负责晶圆的加工制造，后道工艺在封测厂中进行，主要负责芯片的封装测试，其中，化学机械抛光（CMP）是实现晶圆全局平坦化 ...

集微网消息，1月18日，江丰电子在接受机构调研时表示，公司CMP产品主要包括CMP用保持环（Retainer Ring）、抛光垫（Pad）、活化盘（Disk）以及CMP组头服务，其客户与集成电路靶材客户基本相同，公司已引进掌握以上技术及市场的核心人才全面开发此类产品，将 ...

行业主要上市公司：安集科技(688019)、上海新阳(300236)、鼎龙股份(300054)、万华化学(600309)等 本文核心数据：全球各地区半导体材料分布情况、全球CMP抛光液专利技术申请数量、全球CMP抛光液市场份额 1、全球CMP抛光液供给区域发展格局：企业主要分布在美国 全球 ...

禾臣新材料有新型显示吸附垫\抛光垫、光罩掩膜版基材、半导体用CMP抛光材料3大类产品，已经服务国内30多家头部客户。 36氪获悉，安徽禾臣新材料有限公司（以下简称“禾臣新材料”）完成1亿元的新一轮融资，由深圳市高新投、安徽省江东产投领投，和县和 ...